PVD-Beschichtungsanlage – Los 1 Die Gruppe Mikro- und Sensortechnologie innerhalb der Abteilung Tribologie, Korrosion, Sensorik am Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik IST entwickelt dünnschichtbasierte Sensorik für tribologisch belastbare Einsatzfelder. Für die Herstellung von elektrischen Isolationsschichten und Hartstoffschichten wird eine PVD-Vakuumanlage benötigt (Los 1). Für die Herstellung von amorphen Kohlenwasserstoffschichten (DLC) und Modifikationen davon bzw. Hartstoffschichten wird eine PECVD-Vakuumanlage (Los 2) benötigt. | PECVD-Beschichtungsanlage – Los 2 Die Gruppe Mikro- und Sensortechnologie innerhalb der Abteilung Tribologie, Korrosion, Sensorik am Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik IST entwickelt dünnschichtbasierte Sensorik für tribologisch belastbare Einsatzfelder. Für die Herstellung von elektrischen Isolationsschichten und Hartstoffschichten wird eine PVD-Vakuumanlage benötigt (Los 1). Für die Herstellung von amorphen Kohlenwasserstoffschichten (DLC) und Modifikationen davon bzw. Hartstoffschichten wird eine PECVD-Vakuumanlage (Los 2) benötigt.