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Deep Reactive Ion Etching (DRIE) Si fluorine chemistry etcher active

Auftraggeber
Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf e.V.
Veroeffentlicht
26.03.2026
Frist
28.04.2026 10:00
Art
vgv
Geschaetzter Wert
-
Land
DE
IT-Relevanz
★☆☆☆☆ (1/5)
Hardware-Relevanz
★☆☆☆☆ (1/5)
Quelle
dtvp | Originalquelle ↗
Notice ID
2478333

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